关注微信公众号查券更方便
机械工业出版社官网正版
碳化硅功率器件 特性、测试和应用技术 第2版 高远 张岩编 计量与检测技术 纳米压印 光刻胶 光刻机 导体技术 机械工业出版正版书
官网正版 芯片制造 半导体工艺与设备 陈译 陈铖颖 张宏怡 摩尔定律 晶圆代工 产业结构 光刻技术 洁净系统 干法刻蚀
现货 光刻技术 原著第二版 林本坚 半导体芯片制造集成电路光刻技术 驱动光学光刻基本方程参数 成像基础理论 光刻系统组件书
2册 光刻技术 原著第二版 半导体先进光刻理论与技术 半导体芯片制造集成电路光刻技术 光刻系统组件 微电子材料工程专业参考教材
超大规模集成电路先进光刻理论与应用.韦亚一/电子 通信/9787030482686科学出版社
【精装】超大规模集成电路先进光刻理论与应用韦亚一光刻技术概述匀胶显影机及其应用投影式光刻机的工作原理掩模板及其管理
5册光刻技术原著第二版半导体先进光刻理论与技术MEMS三维芯片集成技术功率半导体器件封装测试和可靠性半导体纳米器件工程参考书
超大规模集成电路先进光刻理论与应用 光刻技术概述 匀胶显影机及其应用 投影式光刻机的工作原理 韦亚一 著 正版书籍
“芯”制造 集成电路制造技术链 集成电路科学与工程前沿教材 芯片制造光刻机 芯片书籍正版
G-33D6型高精密双面光刻机
G-33E6型高精密双面光刻机
G-31D6型高精密双面光刻机
G-33E4型高精密双面光刻机
G-33B6型高精密双面光刻机
G-25X型高精密双面光刻机
G-33B4型高精密双面光刻机
不锈钢光刻机单面接触式紫外光刻机G33双面光刻机镭射芯片光刻机
G-31D4型高精密双面光刻机
厂直销制版机立式激光制版机器光刻机无菲林激光制版机
双面光刻机不锈钢接触式紫外光刻机 全自动曝光机G31型双面曝光机
G-31B4型高精密双面光刻机
单面半自动不锈钢镭射芯片光刻机G-26型高精密单面光刻机激光刻机
G-25D4型高精密双面光刻机
G-30D4型高精密双面光刻机
G-43D6型高精密双面光刻机
G-25XA型高精密双面光刻机
G-43D4型高精密双面光刻机
G-30B4型高精密双面光刻机
G25系列双面接触式紫外光刻机 镭射芯片光刻机 不锈钢单面光刻机
G25不锈钢 激光刻机 曝光机 镭射式 曝光机单面接触式 紫外光刻机
G30单面半自动 光刻机 不锈钢 镭射式激光刻机接触式紫外光刻机光
喷涂机用于光刻胶透明导电膜匀胶涂覆替代传统旋涂喷雾
超声波喷涂机半导体光刻胶涂层喷涂设备桌面式超声雾化喷嘴
G-43E6型高精密双面光刻机
G-43E4型高精密双面光刻机